[发明专利]一种柱面反投影变换方法有效
申请号: | 201610368246.3 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN106023115B | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 曹济英;周子卿;赵鹏;陆高勇;李勃 | 申请(专利权)人: | 南京汇川图像视觉技术有限公司 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 奚铭 |
地址: | 210000 江苏省南京市江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种柱面反投影变换方法,根据透视投影原理,位于柱面上的直线被投影成二次曲线,通过拟合二次曲线表征其成像特性,对竖直方向和水平方向分别进行校正处理,进而实现柱面图像反投影变换。当目标物体相对相机发生前后方向和左右方向的位移时,通过修正二次曲线的系数适应其成像特性的改变,无需再次标定。实验结果表明,本发明仅需一次标定,即可满足目标物体小范围内移动时的图像变换的需求,提高了场景适应性,且精度与传统方法相当。 | ||
搜索关键词: | 一种 柱面 投影变换 方法 | ||
【主权项】:
1.一种柱面反投影变换方法,其特征是包括以下步骤:1)采用棋盘格作为标定物,将事先打印好的标定纸完全贴合在需要校正的柱面上,提取亚像素级别精度的棋盘格角点作为标定依据,根据小孔成像原理,每个角点到相机的距离是按二次曲线分布的,则每个角点位置的像素当量同样按二次曲线分布;2)竖直方向校正:标定纸方格高度呈二次曲线分布,通过拟合方格高度的变化情况表征像素当量倒数的分布情况,得到y=a0x2+b0x+c0,a0,b0,c0为拟合曲线参数,(X0,Y0)为二次曲线y=a0x2+b0x+c0顶点,调整x=X0轴线两边像素当量的大小,以图像的为基准线,height指图像的高度,对图像中任意一点(x0,y0)进行竖直方向反投影变换校正:3)水平方向校正:水平方向上的不同位置的像素当量数值呈二次曲线分布,使用相邻两个角点的平均值来拟合像素当量的变化曲线,标定纸上每个方格的宽度是一致的,设一个方格宽度内的像素当量恒定,求解待拟合点的二次曲线参数(a1,b1,c1),得到水平方向上像素当量倒数的分布情况y=a1x2+b1x+c1,调整y=a1x2+b1x+c1的对称轴两边水平方向像素当量的大小,进行水平方向校正,当前像素点横坐标校正依赖于前面像素点横坐标变化的迭代增量;通过上述步骤,对图像完成基于二次曲线拟合的柱面反投影校正变换。
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