[发明专利]一种介孔SiO2薄膜的制备方法及其产品和应用有效
申请号: | 201610368262.2 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN106045330B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 赵高凌;张馨文;占丰;詹凌曈;孟伟杰;韩高荣 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C03C17/23 | 分类号: | C03C17/23 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 陈华 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种介孔SiO2薄膜的制备方法,包括如下的步骤:1)将正硅酸四乙酯溶于乙醇,滴加稀盐酸,混合搅拌;所述的正硅酸四乙酯与稀盐酸的摩尔比为1:1×10‑5~8×10‑5;2)向步骤1)得到的混合液中继续滴加稀盐酸,搅拌陈化,得到溶液A;所述的继续滴加的稀盐酸与正硅酸四乙酯的摩尔比为0.02~0.06:1;3)十六烷基三甲基溴化铵溶于乙醇,得到溶液B;4)将溶液B加入到溶液A中,搅拌并陈化0.5~2小时,得到产品;5)采用旋涂法在基板上镀膜,然后热处理,获得介孔SiO2薄膜;本发明还涉及介孔SiO2薄膜及其应用。本发明简化了介孔SiO2薄膜的合成方法,在常温下制备溶胶并进行镀膜,经过热处理后得到具有增透效果的孔道有序排列的介孔膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 sio sub 薄膜 制备 方法 及其 产品 应用 | ||
【主权项】:
1.一种介孔SiO2薄膜作为光学增透薄膜的应用,所述介孔SiO2薄膜的制备方法包括如下的步骤:1)将正硅酸四乙酯溶于乙醇,滴加稀盐酸,混合搅拌;所述的正硅酸四乙酯与稀盐酸的摩尔比为1:1×10‑5~8×10‑5;所述的步骤1)中混合搅拌时间为0.5~2h;所述的步骤1)中稀盐酸的摩尔浓度为0.002~0.004mol/L;2)向步骤1)得到的混合液中继续滴加稀盐酸,搅拌陈化,得到溶液A;所述的继续滴加的稀盐酸与正硅酸四乙酯的摩尔比为0.02~0.06:1;所述的步骤2)中搅拌陈化的时间为0.5~4h;所述的步骤2)中稀盐酸的摩尔浓度为0.45~0.65mol/L;3)十六烷基三甲基溴化铵溶于乙醇,得到溶液B;4)将溶液B加入到溶液A中,搅拌并陈化0.5~2小时,得到产品;所述的正硅酸四乙酯与十六烷基三甲基溴化铵的摩尔比为1:0.02~0.2;5)采用旋涂法在基板上镀膜,然后热处理,获得介孔SiO2薄膜;所述热处理是指:在400~500℃下热处理3~6h;所述的步骤5)中旋涂法是指:先500~700rd/min旋涂4~10s,后2000~6000rd/min旋涂6~20s。
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