[发明专利]光刻版、互连线图形的光刻方法及互连线的制备方法有效
申请号: | 201610370155.3 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN106019813B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 张月雨;于世瑞;蒋斌杰;张瑜 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;H01L21/027;H01L21/768 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种光刻版、互连线图形的光刻方法及互连线的制备方法,通过将第一互连线图形的一端设计为具有多级台阶状边缘的图形,通过调节台阶的高度与台阶的宽度的大小及比例来控制多级台阶状边缘经OPC修正后的倾斜角,解决了现有工艺中由于设计规则限制,只能制备45°或90°倾斜角的互连线的问题,实现了互连线倾斜角的自由可调,为提高器件的性能提供了一种可行性途径。 | ||
搜索关键词: | 光刻 互连 线图 方法 制备 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备互连线的光刻版,光刻版中包括第一互连线图形以及与第一互连线图形相连接的第二互连线图形;其特征在于,第一互连线图形的一端为具有多级台阶状边缘的图形,具有多级台阶状边缘的图形与第二互连线图形连接;通过调节多级台阶状边缘中台阶的高度和宽度的大小及比例来控制所述多级台阶状边缘经OPC修正后的倾斜角,使得多级台阶状边缘经OPC修正后的倾斜角的正切值等于台阶的高度与台阶的宽度的比值。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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