[发明专利]显示装置及制备方法、电子设备在审

专利信息
申请号: 201610373180.7 申请日: 2016-05-30
公开(公告)号: CN106024832A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 刘华英 申请(专利权)人: 刘华英
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315137 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种显示装置,其中包括:衬底层;TFT层,形成于衬底层上;阳极层,形成于TFT层上;OLED层,形成于阳极层上;阴极层,形成于OLED层上和未被OLED层覆盖的衬底层上;封装层,形成于阴极层上和未被阴极层覆盖的衬底层上,并与阴极层和衬底层形成包覆空间;还包括防护膜;防护膜形成于以下位置中的至少一处:衬底层背离TFT层的表面、TFT层与阳极层之间、阳极层与OLED层之间、OLED层与阴极层之间、阴极层与封装层之间、封装层背离阴极层的表面;防护膜,适用于随着显示装置的弯曲而变形。其有效解决了传统的显示装置屏体的整体显示效果不均匀的问题。本发明还公开了一种显示装置的制备方法以及电子设备。
搜索关键词: 显示装置 制备 方法 电子设备
【主权项】:
一种显示装置,其特征在于,包括:衬底层;TFT层,所述TFT层形成于所述衬底层上;阳极层,所述阳极层形成于所述TFT层上;OLED层,所述OLED层形成于所述阳极层上;阴极层,所述阴极层形成于所述OLED层上和未被所述OLED层覆盖的所述衬底层上;封装层,所述封装层形成于所述阴极层上和未被阴极层覆盖的所述衬底层上,并与所述阴极层和所述衬底层形成包覆空间;所述包覆空间包覆所述TFT层、所述阳极层、所述OLED层和所述阴极层;还包括防护膜;所述防护膜形成于以下位置中的至少一处:所述防护膜形成于所述衬底层背离所述TFT层的表面、所述TFT层与所述阳极层之间、所述阳极层与所述OLED层之间、所述OLED层与所述阴极层之间、所述阴极层与所述封装层之间、所述封装层背离所述阴极层的表面;所述防护膜,适用于随着所述显示装置的弯曲而变形。
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