[发明专利]一种低成本纳米多孔硅和氧化硅超细微粒的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610374292.4 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN106000286B 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 孙卓;刘素霞 申请(专利权)人: 上海纳晶科技有限公司
主分类号: B01J20/10 分类号: B01J20/10;B01J20/30;B01D39/06;C01B33/18
代理公司: 北京连城创新知识产权代理有限公司 11254 代理人: 刘伍堂
地址: 200062 上海市普*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及半导体和太阳能硅材料技术领域,具体地说是一种低成本纳米多孔硅和氧化硅超细微粒的制备方法。一种低成本纳米多孔硅和氧化硅超细微粒的制备方法,采用金刚石线在去离子水中切割硅片后所产生的硅粉水溶液作为原材料,制备方法如下:将硅粉水溶液经过提纯获得的水合硅微粒;将水合硅微粒可在氢氟酸与硝酸水溶液中通过化学腐蚀工艺制备出纳米多孔硅微粒;将纳米多孔硅微粒直接进行加热后可制备出高比表面积的纳米多孔水合氧化硅或氧化硅微粒材料,作为高效吸附或过滤材料使用。同现有技术相比,提供一种低成本纳米多孔硅和氧化硅超细微粒的制备方法,经生产工艺改进后,将硅微粒转化为水合纳米多孔硅和氧化硅微粒,使其得以资源化利用。
搜索关键词: 一种 低成本 纳米 多孔 氧化 细微 制备 方法
【主权项】:
1.一种低成本纳米多孔氧化硅超细微粒的制备方法,采用金刚石线在去离子水中切割硅片后所产生的硅粉水溶液作为原材料,其特征在于:所述的制备方法如下:(1)将硅粉水溶液经过提纯获得的水合硅微粒,水合硅微粒的尺寸为100~1000nm;(2)将水合硅微粒在氢氟酸与硝酸的水溶液中通过化学腐蚀工艺制备出纳米多孔硅微粒,纳米孔径分布为2~30nm;(3)或者将水合硅微粒在氢氟酸与乙醇的水溶液中通过电化学腐蚀工艺制备出纳米多孔硅微粒,纳米孔径分布为2~50nm;(4)将纳米多孔硅微粒直接进行加热后制备出高比表面积的纳米多孔氧化硅微粒材料,作为高效吸附或过滤材料使用;所述的水合硅微粒是由纯度在99%以上的硅微粒和表面吸附的水分子组成,水与硅的比例为20~30wt%,以潮湿形态存在。
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