[发明专利]一种Low-E玻璃的镀膜方法

摘要

本发明公开了一种Low‑E玻璃的镀膜方法，本发明属于特种玻璃生产领域；该产品是在玻璃基片表面镀上多层化合物和金属组成的膜系产品，生产该产品使用的原料包括洁净的玻璃基片、氮化硅铝、氧化锌铝、镍铬、银、氮气、氧气、氩气，使用的设备为5个溅射室，即溅射室1、溅射室2、溅射室3、溅射室4、溅射室5；该方法具有生产工艺简单、原料来源方便、使用通用设备、反应条件温和、无污水废气排放、可批量生产的优点，产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能，主要用于制作Low‑E中空玻璃和用于建筑物的门窗。

主权项

一种Low‑E玻璃的镀膜方法，使用的原料包括：洁净的玻璃基片、氮化硅铝、氧化锌铝、镍铬、银、氮气、氧气、氩气，使用的设备为5个溅射室，即溅射室1、溅射室2、溅射室3、溅射室4和 溅射室5，其特征在于：（1）把洁净的玻璃基片通过输送机送入溅射室1，溅射室1布置3个阴极位，同时送入氮气、氧气，溅射的材料为化合物，溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜；（2）把经过溅射室1镀膜后的玻璃基片送入溅射室2，溅射室2布置3个阴极位，同时送入氮气、氧气，溅射的材料为化合物，溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜；（3）把经过溅射室2镀膜后的玻璃基片送入溅射室3，溅射室3布置3个阴极位，同时送入氩气，溅射的材料为金属，溅射的过程在氩气的参与下分三次进行，形成第三、第四、第五层薄膜；（4）把经过溅射室3镀膜后的玻璃基片送入溅射室4，溅射室4布置3个阴极位，同时送入氮气、氧气，溅射的材料为化合物，溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜；（5）把经过溅射室4镀膜后的玻璃基片送入溅射室5，溅射室5布置3个阴极位，同时送入氮气、氧气，溅射的材料为化合物，溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。