[发明专利]转印装置和转印方法有效
| 申请号： | 201610378053.6 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN105807500B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 田维 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种转印装置和转印方法，该转印装置包括：转印层承载部；转印层，围绕所述转印层承载部设置在所述转印层承载部的表面上，且其表面上设置有多个载液结构；其中，所述转印层承载部被设置为其与所述转印层的接触面积可调。该转印装置可通过调整转印层承载部与转印层的接触面积使其表面上排布的载液结构的大小改变，由此可改变载液量的大小，从而实现玻璃基板表面配向膜液涂覆的厚度、均一度等参数的调节，来满足工厂针对不同产品不同配向膜厚度的生产。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种转印装置，包括：转印层承载部；转印层，围绕所述转印层承载部设置在所述转印层承载部的表面上，且其表面上设置有多个载液结构；其中，所述转印层承载部被设置为其与所述转印层的接触面积的大小可调节，所述载液结构的载液量的大小随着所述转印层承载部与所述转印层的接触面积的大小的改变而改变。
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