[发明专利]具有抗等离子体蚀刻的涂层的等离子体蚀刻装置在审
| 申请号： | 201610379898.7 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106252188A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 桑科特·桑特 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人： | 樊英如;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有等离子体抗蚀刻涂层的等离子体蚀刻装置。提供一种用于处理衬底的装置。室壁构成处理室腔。用于支撑衬底的衬底支撑件位于处理室腔内。用于提供气体到处理室中的气体入口是位于衬底表面上方。用于使射频功率通过到处理室腔的窗包括陶瓷或石英窗主体和在陶瓷窗主体的表面上的氧化铒、氟化铒、氧化钐、氟化钐、氧化铥、氟化铥、氧化钆或氟化钆中的至少一种的涂层。线圈位于处理室腔之外，其中窗是在处理室腔和线圈之间。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 等离子体 蚀刻 涂层 装置 | ||
【主权项】：
一种用于处理衬底的装置，其包括：室壁，其形成处理室腔；衬底支撑件，其用于在所述处理室腔内支撑所述衬底；窗，其用于使射频功率通过进入所述处理室腔内，所述窗包括：陶瓷或石英的窗主体；以及在所述窗主体的面朝所述处理室腔的表面上的涂层，在所述窗主体的至少一个表面上所述涂层包括氧化铒、氟化铒、氧化钐、氟化钐、氧化铥、氟化铥、氧化钆或氟化钆中的至少一种；以及位于所述处理室腔之外的线圈，其中所述窗是在所述处理室腔和所述线圈之间。
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