[发明专利]一种真空炉

摘要

本发明公开了一种真空炉，包括固定在操作箱的侧壁上的第一真空腔室、固定在操作箱的侧壁上的第二真空腔室、用于盖设第二真空腔室的腔盖。第二真空腔室容置于所述第一真空腔室内部；在第二真空腔室的内部设置有载物台，所述载物台上放置工件；而在所述第二真空腔室的外壁覆盖有密闭的加热腔室，在所述加热腔室内部设置有加热组件，所述加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于对所述第二真空腔室进行加热，此结构可将加热组件和工件区分，进而避免加热组件对工件的污染，提高工件的质量。

主权项

一种真空炉，其特征在于，包括：第一真空腔室，固定在操作箱的侧壁上；所述第一真空腔室包括充气口和排气口；所述第一真空腔室的充气口用于充入气体；所述第一真空腔室的排气口用于排出所述气体；所述第一真空腔室充入的气体是氩气和/或氮气进而快速降温；第二真空腔室，容置于所述第一真空腔室内部且固定在所述操作箱的侧壁上；所述操作箱的侧壁上设置有一开口，使得所述第二真空腔室和所述操作箱内部相通；所述第二真空腔室的内部设置有载物台，所述载物台上放置工件；所述第二真空腔室的外壁覆盖有密闭的加热腔室，所述加热腔室和所述第一真空腔室之间具有间隙，在所述加热腔室内部设置有加热组件，所述加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于对所述第二真空腔室进行加热；腔盖，设置在所述操作箱的开口处，用于盖设所述第二真空腔室。