[发明专利]一种由二氧化硅制备纳米硅的新方法在审

专利信息
申请号: 201610382034.0 申请日: 2016-06-01
公开(公告)号: CN106044777A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 刘志亮;常兴华;郑捷;李星国 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C01B33/023 分类号: C01B33/023;B82Y30/00
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 董琍雯
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种由二氧化硅制备纳米硅的新方法,该方法基于镁热还原SiO2是放热的自发反应的原理,通过在室温下低转速球磨引发反应,并利用反应放热,维持反应自发进行,10min即可基本完成。原料简单易得,操作步骤非常简单,具有简单快捷,产率高,成本低、反应产物纯度高、易于放大等优势,制备出的纳米硅颗粒尺寸小,分布均匀,具有多孔结构,可利用在锂离子电池负极材料,传感器,光学器件等各个方面,极具工业化应用前景。
搜索关键词: 一种 二氧化硅 制备 纳米 新方法
【主权项】:
一种由二氧化硅制备纳米硅的新方法,包括以下步骤:(1)取二氧化硅原料和镁粉混合并进行球磨;(2)使球磨后的混合物与盐酸进行反应,除去MgO,生成MgCl2,离心分离纳米硅,洗涤并干燥,得到纳米硅。
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