[发明专利]一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极及其微加工工艺有效
| 申请号： | 201610382074.5 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106044703B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 何亮;杨威;郭名浩;朱瑞琦;麦立强 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 张惠玲 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极的微加工工艺，包括1)将石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水按1～10400600～70010000～30000的质量比混合均匀后，在反应釜中进行水热合成反应，水热合成反应完毕后经过离心，干燥得到固体产物，将固体产物研磨，得到二硫化钼纳米片/石墨烯材料；2)将光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料混合均匀然后涂覆于基板上烘干，再进行紫外光刻、显影和润洗，最后进行高温热解反应得到热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极。所得的微电极具有良好的电化学性能，在微型传感器和微型储能器件等领域有着良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热解碳 二硫化钼 纳米 石墨 复合材料 图案 微电极 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】：
一种热解碳/二硫化钼纳米片/石墨烯复合材料图案化微电极，包括基板与光刻在基板上的复合材料，其特征在于，所述复合材料由光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料组成，所述光刻胶与二硫化钼纳米片/石墨烯材料的质量比为10～200：1；所述二硫化钼纳米片/石墨烯材料由石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水制成，所述石墨烯、二水钼酸钠、硫脲、水的质量比为1～10：400：600～700：10000～30000。
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