[发明专利]用于图案处理的组合物和方法有效
| 申请号： | 201610384024.0 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106243514B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | V·吉安;M·李;H·周;J·K·朴;P·D·胡斯泰特;J·W·成 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C08L23/14 | 分类号： | C08L23/14;C08L23/08;C08L23/16;C08L53/00;C08F297/08;G03F1/76 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡嘉倩;陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请提供一种包含嵌段共聚物和有机溶剂的图案处理组合物。还提供使用所描述的组合物的图案处理方法。所述图案处理组合物和方法在半导体装置制造中发现特定可应用性，用于提供高分辨率图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 图案 处理 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案处理组合物，其包含嵌段共聚物和有机溶剂，所述有机溶剂以按总图案处理组合物计90到99重量％的量存在，其中所述嵌段共聚物包含第一嵌段和第二嵌段，其中所述第一嵌段包含由第一单体形成的单元，所述第一单体包含烯系不饱和可聚合基团和氢受体基团，其中所述氢受体基团是含氮基团，并且所述第二嵌段包含由第二单体形成的单元，所述第二单体包含烯系不饱和可聚合基团和芳香族基团，其限制条件是所述第二单体不是苯乙烯，并且其中：(i)所述第二嵌段包含由第三单体形成的单元，所述第三单体包含烯系不饱和可聚合基团，并且所述第二单体与所述第三单体不同；和/或(ii)所述嵌段共聚物包含第三嵌段，所述第三嵌段包含由第四单体形成的单元，所述第四单体包含烯系不饱和可聚合基团。
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