[发明专利]一种清洁设备及清洁方法有效
| 申请号： | 201610384100.8 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106076980B | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 井杨坤;刘飞;徐志伟;车晓盼;陈传辉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/02 | 分类号： | B08B7/02;G02F1/13;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洁设备及清洁方法。其中，清洁设备用于去除基板上的残留物，包括：设置在所述基板上的形变单元；激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。本发明的技术方案在基板上设置有形变单元，并控制形变单元在激励源作用下产生形变，该形变过程能够轻柔地带动基板产生振动，从而在不损伤基板的前提下，使基板表面的残留物脱落下来，以达到清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁设备，用于去除基板上的残留物，其特征在于，包括：设置在所述基板上的形变单元；激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物；所述激励源为气体，所述激励单元包括：温度控制部，用于通过输出不同温度的气体，对设置有所述形变单元的基板进行冷热循环处理；所述形变单元为膨胀膜，且该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数，所述激励源用于改变所述膨胀膜的温度；其中，所述膨胀膜在所述激励源作用下热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。
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