[发明专利]基板缺陷位置定位方法及装置和系统有效

专利信息
申请号: 201610389092.6 申请日: 2016-06-02
公开(公告)号: CN106093073B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 张祥 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: G01N21/956 分类号: G01N21/956
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基板缺陷位置定位方法、装置和系统。一种基板缺陷位置定位方法,用于定位基板上的缺陷位置,缺陷具有灰阶信息,包括步骤:根据缺陷的灰阶信息,判断缺陷类型;根据缺陷类型,调节光源强度并获取视野图片;将视野图片转换为二阶化图片;根据二阶化图片确定缺陷位置。一种基板缺陷位置定位装置,用于上述基板缺陷位置定位方法,包括信息处理单元、光源控制单元、目视单元以及图像处理单元。一种基板缺陷位置定位系统,包括自动光学检测设备以及上述基板缺陷位置定位装置,自动光学检测设备连接基板缺陷位置定位装置的信息处理单元。上述方法、装置和系统能够提高了缺陷定位的效率,降低了缺陷误报率。
搜索关键词: 缺陷 位置 定位 方法 装置 系统
【主权项】:
1.一种基板缺陷位置定位方法,用于定位基板上的缺陷位置,所述缺陷具有灰阶信息,其特征在于,包括步骤:根据所述缺陷的灰阶信息,判断所述缺陷类型;根据所述缺陷类型,调节光源强度并获取视野图片;将所述视野图片转换为二阶化图片;设定图片对比周期,将所述缺陷和周期性图案进行对比,确定是否存在缺陷;根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置;所述缺陷类型包括暗点缺陷和亮点缺陷;在所述根据所述缺陷类型,调节光源强度并获取视野图片的步骤中,还包括步骤,如果所述缺陷类型为暗点缺陷,将所述光源强度调高;如果所述缺陷类型为亮点缺陷,将所述光源强度调低。
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