[发明专利]可湿式剥去的含硅抗反射剂有效
申请号: | 201610389823.7 | 申请日: | 2016-06-02 |
公开(公告)号: | CN106243357B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | O·昂加依;C·卡特勒;M·李;S·山田;J·卡梅伦 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
主分类号: | C08G77/14 | 分类号: | C08G77/14;C08G77/18;C08G77/26;C08G77/28;G03F7/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供包含一或多种含硅聚合物的可湿式剥去的抗反射组合物,所述含硅聚合物不含作为聚合单元的Q单体和氢化硅烷。这些组合物适用于制造多种电子装置。 | ||
搜索关键词: | 可湿式 剥去 含硅抗 反射 | ||
【主权项】:
1.一种硅氧烷聚合物,其包含作为聚合单元的一或多个式(1)的第一单体或其二聚体和一或多个式(2)的第二单体或其二聚体R2SiX2 (1) RSiX3 (2)其中每一R独立地选自芳基、取代的芳基、芳烷基、烷基、烯基、芳烯基以及R1;R1为包含一或多个‑C(O)‑O‑C(O)‑部分的C2‑30有机基团;并且每一X为可水解部分;其中至少一个R为R1;其中,至少一个R选自芳基、取代的芳基、芳烷基;并且其中≥30%的组成所述聚合物的单体包含一或多个选自以下各者的功能性部分:羟基、巯基、缩水甘油基氧基、氰基、亚烷氧基、环丁砜基以及‑C(O)‑O‑C(O)‑;并且其中所述聚合物不含作为聚合单元的式HSiX3和SiX4的单体。
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