[发明专利]一种抛光层及其制备方法以及低损伤化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 201610390856.3 | 申请日： | 2016-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN105904352B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;梅黎黎 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/00 | 分类号： | B24D13/00;B24D18/00;B24D3/34;C08G18/66;C08G18/32;C08G18/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430057 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抛光层及其制备方法以及低损伤化学机械抛光垫，解决了现有抛光层硬度高、损伤率高的问题，本发明方法以由异氰酸酯封端的预聚物、固化剂以及功能填料为原料混合固化而成，其中，所述异氰酸酯封端的预聚物由多官能异氰酸酯和分子量为650‑2000的多元醇反应制备。本发明抛光层由上述方法制得，本发明抛光垫含有上述抛光层。本发明具有工艺简单、具有优良的平坦化能力、低损伤率和低缺陷含量的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光层 低损伤 制备 异氰酸酯 预聚物 多官能异氰酸酯 化学机械抛光垫 化学机械抛光 多元醇反应 功能填料 原料混合 低缺陷 固化剂 抛光垫 平坦化 损伤率 固化 | ||
【主权项】：
1.一种抛光层，其特征在于，所述抛光层的邵氏硬度为15D-27D,由下述方法制得:以由异氰酸酯封端的预聚物、固化剂以及功能填料为原料混合固化而成，其中，所述异氰酸酯封端的预聚物由多官能异氰酸酯和分子量为650-2000的多元醇反应制备；以异氰酸酯封端的预聚物、固化剂以及功能填料总量100wt％计，功能填料的添加比占1-2wt％。
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