[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板在审
| 申请号： | 201610391258.8 | 申请日： | 2016-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN105977151A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 丁向前;白金超;王静 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/321 | 分类号： | H01L21/321;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，涉及显示技术领域，可以防止阵列基板上的金属线异常放电。该阵列基板包括金属线，所述金属线包括金属层及形成在所述金属层表面绝缘的金属氧化层；其中，所述金属氧化层是通过将所述金属层经过氧化处理得到的。用于防止金属线异常放电。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括金属线，其特征在于，所述金属线包括金属层及形成在所述金属层表面绝缘的金属氧化层；其中，所述金属氧化层是通过将所述金属层经过氧化处理得到的。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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