[发明专利]一种抛光层及其制备方法以及化学机械抛光垫有效
申请号: | 201610391966.1 | 申请日: | 2016-06-03 |
公开(公告)号: | CN106041719B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 朱顺全;梅黎黎 | 申请(专利权)人: | 湖北鼎龙控股股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/24;B24D18/00;C08G18/44 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 涂洁 |
地址: | 430057 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种抛光层及其制备方法以及化学机械抛光垫,解决了现有抛光垫机械性能不稳定的问题。本发明抛光层以由聚氨酯预聚体、固化剂以及功能填料为原料混合固化而成,其中,聚氨酯预聚体是以聚碳酸酯多元醇和多官能氰酸酯为原料反应而成。本发明化学机械抛光垫含有所述抛光层,具有工艺简单、成本低廉、机械性能稳定的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光 及其 制备 方法 以及 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械抛光垫中的抛光层的制备方法,其特征在于,以由聚氨酯预聚体、固化剂以及功能填料为原料混合固化而成,其中,聚氨酯预聚体是以聚碳酸酯多元醇和多官能氰酸酯为原料反应而成,所述聚碳酸酯多元醇为官能度为2的聚碳酸酯二醇;所述聚氨酯预聚体、固化剂以及功能填料三者的混合质量比为100:(10‑25):(10‑30)。
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