[发明专利]一种化学机械抛光垫、缓冲层及其制备方法有效
| 申请号： | 201610391967.6 | 申请日： | 2016-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN106046313A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;梅黎黎 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C08G18/76 | 分类号： | C08G18/76;C08G18/73;C08G18/66;C08G18/48;C08G18/32;C08G18/75;B24D13/00;B24D18/00 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 涂洁 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光垫、缓冲层及其制备方法，解决了现有缓冲层防水性不佳、损耗大、性能有待进一步提高的问题。技术方案为将异氰酸根离子封端预聚体和固化剂混合后固化成形，其中，所述异氰酸根离子封端预聚体由多官能异氰酸酯和分子量为1000‑3000的聚醚多元醇反应制备而成。本发明缓冲层由上述方法制得；本发明抛光垫含有上述缓冲层。本发明工艺简单、成本低、能耗低、环境友好、水解性能优良、使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 缓冲 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫用缓冲层的制备方法，其特征在于，将异氰酸根离子封端预聚体和固化剂混合后固化成形，其中，所述异氰酸根离子封端预聚体由多官能异氰酸酯和分子量为1000‑3000的聚醚多元醇反应制备而成。
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