[发明专利]真空镀膜装置

摘要

本发明涉及真空镀膜装置，所述装置由喷淋板、连通真空的反应腔、脉冲阀组成，所述喷淋板同时是反应腔顶盖，所述顶盖内部设置气体管，每一种气体管由外部气体进气管和内部气体分布管组成，并且每一种气体管为相互独立的气体管。采用本发明技术方案，进入喷淋板的反应气体的进气管和气体分布管是完全独立的，保证了不同反应气体在进入反应腔前相互隔离，完全避免了CVD的产生,缩短了残余气体反应物及气体反应产物的清洗时间,提高了沉积速度.另一方面,本发明使气流进入反应腔分布均匀,确保了反应气体在反应腔的任何部位的气体浓度相同,完美解决了影响薄膜沉积厚度的气体浓度差异问题。

主权项

1.真空镀膜装置，所述装置由喷淋板、连通真空的反应腔、脉冲阀组成，其特征在于：所述喷淋板同时是反应腔顶盖，所述顶盖内部设置气体管，所述每一种气体管由外部气体进气管和内部气体分布管组成，并且每一种气体管为相互独立的气体管，所述内部气体分布管上设有若干个喷淋孔组；所述装置设有两个外部气体进气管，所述外部气体进气管相互独立，相对设于喷淋板的两侧；每一个外部气体进气管可允许一种或两种不同反应气体分别从两端进入；每一个外部气体进气管连接若干个内部气体分布管；一种反应物的内部气体分布管和另一种反应物的内部气体分布管相互平行，交叉间隔设置。