[发明专利]一种激光在非金属表面直写石墨烯图案的方法在审
申请号: | 201610397337.X | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN106057644A | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 叶晓慧;苏孟兴;陈迪春 | 申请(专利权)人: | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 周会芝 |
地址: | 471000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种激光在非金属表面直写石墨烯图案的方法,步骤1、制备柔性透明基底;步骤2、旋涂固态有机碳源:利用旋涂机将固态有机碳源以设定的转速和旋涂时间均匀旋涂到步骤1所述柔性透明基底的表面,得到均匀的碳涂层;步骤3、激光辐照:在惰性气体保护下,使超短脉冲激光束按照设计的图案在步骤2得到的碳涂层表面移动,对碳涂层进行辐照,从而在柔性透明基底的表面形成具有设定图案的石墨烯。本发明利用激光高功率密度的特性,具有快速升温、快速冷却的特点,能在极短的时间内完成石墨烯的生长和图案化。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 非金属 表面 石墨 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种激光在非金属表面直写石墨烯图案的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、制备柔性透明基底;步骤2、旋涂固态有机碳源:利用旋涂机将固态有机碳源以设定的转速和旋涂时间均匀旋涂到步骤1所述柔性透明基底的表面,得到均匀的碳涂层;步骤3、激光辐照:在惰性气体保护下,使超短脉冲激光束按照设计的图案在步骤2得到的碳涂层表面移动,对碳涂层进行辐照,从而在柔性透明基底的表面形成具有设定图案的石墨烯。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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