[发明专利]流体处理装置及其制备方法

摘要

本申请公开了一种流体处理装置及其制备方法。所述流体处理装置包括具有第一流体通道的基体；彼此间隔的若干凸起部，所述凸起部沿横向在该基体的第一表面上连续延伸，其上部设有帽形结构，所述帽形结构的相背对的两侧部沿侧向外延，而相邻帽形结构之间形成有可供流体通过的开口部，其中至少两个凸起部分别设于第一流体通道的流体入口两侧，至少一凸起部直接从第一流体通道的流体入口上通过，从而使这些帽形结构、凸起部与基体之间配合形成第二流体通道，待处理的流体仅能通过第二流体通道进入第一流体通道。本申请的流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微/纳米级颗粒等特点，可重复使用，使用寿命长，且适于规模化大批量生产。

主权项

一种流体处理装置，其特征在于包括：具有第一流体通道的基体，所述第一流体通道具有流体入口和流体出口，所述第一流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面；彼此间隔设置的复数个凸起部，所述凸起部沿横向在所述基体的第一表面上连续延伸，下部固定设置于所述基体的第一表面，上部设有沿横向连续延伸的帽形结构，所述帽形结构的相背对的两侧部沿侧向外延，而相邻帽形结构之间形成有可供流体通过的开口部，所述开口部的口径大于0但小于混杂于待处理的流体内的选定颗粒的粒径，其中至少两个所述的凸起部分别与所述第一流体通道的流体入口的相背对的两侧相邻设置，以及至少一个所述的凸起部直接从所述第一流体通道的流体入口上通过，从而使复数个帽形结构、复数个凸起部与基体之间配合形成与所述第一流体通道连通的第二流体通道，且待处理的流体仅能通过所述第二流体通道进入第一流体通道。