[发明专利]一种版图设计规则的优化方法及系统

摘要

本发明提供一种版图设计规则的优化方法，针对先进技术节点的研发，通过将初始版图拆分出关键图形，以关键图形作为后续仿真优化的版图，在优化时，通过光源掩模协同优化仿真确定合理的光源和配套掩模版以及优化后的光刻光学模型，而后在该光刻光学模型下对优化的光源和掩模版的可制造性进行仿真，并根据可制造性仿真的热点输出，进行设计规则的优化，通过反复迭代获得优化的设计规则。在该优化过程中，针对关键图形版图进行优化，可行性强且优化效率高，而且是通过设计规则的调整，这样一方面可以减少版图仿真过程中迭代的次数，提高优化效率，另一方面可以获得更为优化的设计规则，简化设计过程并缩短设计周期。

主权项

1.一种版图设计规则的优化方法，其特征在于，包括：S01，提供包含初始的设计规则的随机初始版图；S02，将初始版图进行关键图形的拆分，以获得关键图形版图，以关键图形版图中至少部分版图作为仿真版图；S03，对仿真版图进行光源掩模协同优化仿真，以获得包括优化的光源、与光源配套的掩模板和光刻光学模型的仿真结果；S04，对光源掩模协同优化的仿真结果进行可制造性仿真，以检测工艺窗口是否满足预定要求；S05，若可制造性仿真的结果不满足预定要求，则根据可制造性仿真的热点缺陷图形输出，优化并更新设计规则，并以更新的设计规则更新仿真版图，并返回步骤S03；若可制造性评估结果满足预定要求，还包括：S06，获得更新的设计规则下的初始版图，并将初始版图进行关键图形和非关键图形的拆分，以获得拆分版图；S07，在S05中的可制造性评估结果满足预定要求时的光源和光刻光学模型下，进行拆分版图的光学临近效应矫正，以获得矫正的拆分掩模版，并对矫正的拆分掩模版进行可制造性仿真，以检测工艺窗口是否满足预定要求；S08，若可制造性仿真的结果不满足预定要求，则根据可制造性仿真的热点缺陷图形输出，优化并更新设计规则，并以更新的设计规则更新拆分版图，返回步骤S07。