[发明专利]一种显示面板及其制作方法

摘要

本发明公开了一种显示面板以及制作方法，该显示面板包括：基板；设置在所述基板表面的平坦化层；所述平坦化层的表面具有调节结构；所述平坦化层具有第一区域以及第二区域；所述第一区域的表面平行于所述基板；所述调节结构位于所述第二区域；所述第一区域和第二区域交替间隔设置；覆盖所述调节结构表面的显示单元；其中，所述调节结构为设置在所述第二区域的凸起结构或是凹槽结构。所述调节结构有利于增加发光功能层的表面积，减小发光功能层在基板方向的投影面积，增加显示单元的个数，达到增加开口率和分辨率的效果。

主权项

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：/n提供一基板；/n在所述基板表面形成平坦化层，所述平坦化层的表面具有调节结构；所述平坦化层具有第一区域以及第二区域；所述第一区域的表面平行于所述基板；所述调节结构位于所述第二区域；/n在所述调节结构表面形成显示单元；/n其中，所述调节结构为设置在所述第二区域的凸起结构，所述调节结构的截面形状为三角形，其中，凸起结构的厚度由左至右逐渐增大，且其侧面与基板之间的夹角为1°-60°；/n形成所述平坦化层的方法为：在基板表面形成一层平坦化的有机层；采用不同区域透射率不同的半色调掩膜对有机层进行曝光显影，以图案化有机层形成所述平坦化层，其中，曝光处理的掩膜版采用半透膜技术，掩膜版对应通孔的区域为全透，掩膜版对应调节结构的区域透过率由左至右逐渐变小，掩膜版对应通孔与调节结构之间的区域为部分透过，这样，使得曝光以后进行显影时，通孔区域的有机层被完全刻蚀，露出薄膜晶体管的漏极，通孔与调节结构之间的区域的有机层被部分刻蚀，调节结构对应的有机层刻蚀厚度由左至右逐渐减小，掩膜版的过渡区域采用不同的透过率膜层拼接而成；/n所述在所述调节结构表面形成显示单元包括：/n在所述调节结构表面形成第一电极单元，所述第一电极单元通过设置在第一区域的通孔与所述薄膜晶体管的漏极连接；/n在所述第一电极单元表面形成发光功能层；/n在所述发光功能层表面形成第二电极层。/n