[发明专利]对透明基板进行曝光的方法有效
| 申请号： | 201610399140.X | 申请日： | 2016-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN105892156B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 戴文;杜鹏;应见见 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对透明基板进行曝光的方法，包括：将第一光罩、第二光罩与透明基板的相对位置固定；分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光。通过上述方式，本发明能够简化曝光制程工艺，缩短制程时间，使生产效率得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 进行 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对透明基板进行曝光的方法，其特征在于，包括：将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定；利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光；所述将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定包括：将所述透明基板设置于所述第一光罩、第二光罩之间，且三者相互平行；所述利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：利用第一光源产生的光线穿过所述第一光罩照射到所述透明基板上；利用第二光源产生的光线穿过所述第二光罩照射到所述透明基板上；所述第一光罩、第二光罩均包括透光区域和遮光区域，并且所述第一光罩的透光区域、遮光区域分别对应所述第二光罩的遮光区域、透光区域。
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