[发明专利]一种光学检测系统及光学检测设备有效

专利信息
申请号: 201610399412.6 申请日: 2016-06-07
公开(公告)号: CN106092970B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 宋磊;黄先纯 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47;G02B5/02;G02B27/10
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光学检测系统及光学检测设备,第一入射单元提供第一入射光线,并将第一入射光线以预设角度传输至处理单元;第二入射单元提供第二入射光线,并将第二入射光线以若干个角度传输至处理单元;处理单元将第一入射光线和第二入射光线进行处理后以多角度照射到待测基板的表面,经漫反射后形成测试光线传输至生成单元;生成单元根据测试光线,生成待测基板的表面结构的灰度图。由于第一入射单元和第二入射单元的配合,可以实现多角度收集待测基板上的各膜层的灰度信息,得到良好的灰阶成像效果,准确地表现待测基板表面结构的最真实灰度图,进而有效检出不良,提升了检测能力,确保产品后端良率。
搜索关键词: 一种 光学 检测 系统 设备
【主权项】:
1.一种光学检测系统,其特征在于,包括:第一入射单元、第二入射单元、处理单元和生成单元;其中,所述第一入射单元,用于提供第一入射光线,并将所述第一入射光线以预设角度传输至所述处理单元;所述第二入射单元,用于提供第二入射光线,并将所述第二入射光线以若干个角度传输至所述处理单元;所述处理单元,用于将所述第一入射光线和所述第二入射光线进行处理后以多角度照射到待测基板的表面,经漫反射后形成测试光线传输至所述生成单元;所述生成单元,用于根据接收到的所述测试光线,生成所述待测基板的表面结构的灰度图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610399412.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top