[发明专利]用于镍钛根管锉表面改性的钛锆氮化金属物膜的制备方法在审
申请号: | 201610404205.5 | 申请日: | 2016-06-12 |
公开(公告)号: | CN105887013A | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 张钧;赵微;孙丽婷;戴步实 | 申请(专利权)人: | 沈阳大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/32;C23C14/16 |
代理公司: | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人: | 赵越 |
地址: | 110044 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 用于镍钛根管锉表面改性的钛锆氮化物金属膜的制备方法,涉及一种金属膜的制备方法,该方法在镍钛根管锉表面镀覆一层TiZrN膜,能够有效抑制镍钛根管锉中的镍(Ni)离子向外扩散,确定了靶材成分、数量及配置方位,确定了商用高纯度钛锆合金靶作为弧源,确定了工件前处理工艺和沉积工艺,在基本保持镍钛根管锉原有弹性的基础上,提高了镍钛根管锉表面的硬度和抗腐蚀性,从而能有效提高镍钛根管锉的使用性能。保证了膜层表面的硬度、膜层厚度,有效抑制了镍钛根管锉中的镍(Ni)向外扩散,保持了镍钛根管锉的原有弹性,提高了镍钛根管锉表面的耐腐蚀性。 | ||
搜索关键词: | 用于 镍钛根管锉 表面 改性 氮化 金属 制备 方法 | ||
【主权项】:
用于镍钛根管锉表面改性的钛锆氮化物金属膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下过程:本发明制备方法依次包括:a、沉积技术及靶材成分的确定:确定多弧离子镀作为TiZrN膜的制备方案,弧源靶材均为纯度99.99%的钛锆合金靶,钛锆合金靶的原子比为Ti:Zr=50:50;b、弧源个数的确定:根据膜层均匀性要求和镀膜室温度限制来确定所要使用的多弧离子镀弧源个数;c、镍钛根管锉的前处理:选择医用镍钛根管锉,在将其放入镀膜室进行镀膜前,分别用乙醇和蒸馏水进行超声波清洗,电吹风缓慢吹干,然后置于镀膜室的工件架上;d、预轰击清洗工艺的确定:指的是镍钛根管锉在沉积TiZrN膜之前的多弧离子镀技术下的离子轰击清洗工艺;e、沉积工艺的确定:指的是在镍钛根管锉表面采用多弧离子镀技术制备TiZrN膜的沉积工艺,镀膜过程分为两个阶段;f、工件架旋转:在镀膜室抽真空并进行缓慢加热烘烤、对镍钛根管锉进行离子轰击、TiZr合金过渡层沉积、TiZrN膜沉积的整个过程中一直保持工件架旋转,转速为6转/分钟。
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