[发明专利]一种太赫兹量子级联光放大器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610404270.8 申请日: 2016-06-08
公开(公告)号: CN106067656B 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 徐天鸿;黎华;曹俊诚 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026;H01S5/24;H01S5/06;H01S5/10;H01S3/10
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种太赫兹量子级联光放大器,包括:半绝缘GaAs衬底;位于所述衬底表面的GaAs缓冲层;位于所述缓冲层表面的n型重掺杂下接触层;位于所述下接触层表面的有源区;位于有源区上表面的n型重掺杂上接触层;位于所述上接触层表面、且彼此分隔的上电极金属层,各上电极金属层间设有凹至所述缓冲层的深隔离槽;及位于所述下接触层表面及有源区两侧的下电极金属层;所述光放大器根据各上电极金属层分主波导段,和位于主波导段两端、且对称分布的至少两个耦合腔波导段,主波导段和耦合腔波导段在水平方向上呈一直线分布。通过本发明的光放大器,解决了现有光放大器是分立器件,无法与前级THz QCL同时制备,实现片上集成,而且在使用过程中还需进行光学对准的问题。
搜索关键词: 一种 赫兹 量子 级联 放大器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种太赫兹量子级联光放大器,其特征在于,所述太赫兹量子级联光放大器包括:半绝缘GaAs衬底;位于所述半绝缘GaAs衬底上表面的GaAs缓冲层;位于所述GaAs缓冲层上表面的n型重掺杂下接触层;位于所述n型重掺杂下接触层上表面的有源区;位于所述有源区上表面的n型重掺杂上接触层;位于所述n型重掺杂上接触层上表面、且彼此分隔的上电极金属层,其中,各上电极金属层之间设有凹至GaAs缓冲层的深隔离槽;以及位于所述n型重掺杂下接触层表面及有源区两侧的下电极金属层;其中,所述太赫兹量子级联光放大器根据各上电极金属层分为主波导段,和位于所述主波导段两端、且对称分布的至少两个耦合腔波导段,所述主波导段和耦合腔波导段在水平方向上呈一条直线分布。
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