[发明专利]用于解析离子源进样装置的真空盖板结构

摘要

本发明公开了一种用于解析离子源进样装置的真空盖板结构，包括盖板，样品盖板，盖板包括检测孔，样品放置孔，样品盖板活动安装在样品放置孔处且位于盖板的上表面，盖板的与样品放置孔对应的下表面处有一凹槽，凹槽侧壁上有贯通盖板内部且向外开口在盖板的侧壁上的凹槽真空联通孔；本发明通过举靶机构和顶靶机构的运动使得盖板上的凹槽与靶槽平台形成封闭腔室并由真空系统抽真空，以形成过渡真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。

主权项

一种用于解析离子源进样装置的真空盖板结构，其特征在于，包括盖板，样品盖板；所述盖板包括检测孔，样品放置孔，所述样品盖板活动安装在所述样品放置孔处且位于所述盖板的上表面；所述盖板与所述样品放置孔对应的下表面处有一凹槽，所述凹槽侧壁上有贯通所述盖板内部且向外开口在所述盖板的侧壁上的凹槽真空联通孔。