[发明专利]基于磁性PDMS掩模的微坑阵列电解加工的系统与方法有效

专利信息
申请号: 201610406156.9 申请日: 2016-06-12
公开(公告)号: CN106064261B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 侯志保;曲宁松;陈晓磊 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: B23H3/00 分类号: B23H3/00;B23H9/00
代理公司: 江苏圣典律师事务所32237 代理人: 贺翔
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于磁性PDMS掩模的微坑阵列电解加工的系统与方法,属微细电解加工领域。包括阴极工具(1)、PDMS掩模、阳极工件(3)、夹具(5)、电解液(6)、电源(7);其特征在于PDMS掩模为磁性PDMS掩模(2),在阳极工件(3)下方还布置有用于吸引所述磁性PDMS掩模(2),使其紧贴于所述阳极工件(3)表面的永磁体(4)。采用本发明进行电解加工,磁性PDMS掩模在磁场下可以紧密贴合在阳极工件表面,提高电解加工微坑阵列的定域性。
搜索关键词: 基于 磁性 pdms 阵列 电解 加工 系统 方法
【主权项】:
一种基于磁性PDMS掩模的微坑阵列电解加工的系统,包括:阴极工具(1)、PDMS掩模、阳极工件(3)、夹具(5)、电解液(6)、电源(7);上述夹具(5)内部为工作腔,阳极工件(3)、PDMS掩模、阴极工具(1)、永磁体(4)均位于工作腔内;阳极工件(3)和阴极工具(1)分别连接电源(7)正负极;上述夹具(5)具有进液口和出液口,进液口位于夹具上方,出液口沿周向均匀分布于夹具侧壁;上述阴极工具(1)位于PDMS掩模上方,阳极工件(3)位于PDMS掩模下方,阴极工具具有均匀群缝结构,PDMS掩模具有通孔阵列;其特征在于:上述PDMS掩模为磁性PDMS掩模(2),在阳极工件(3)下方还布置有用于吸引所述磁性PDMS掩模(2),使其紧贴于所述阳极工件(3)表面的永磁体(4)。
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