[发明专利]保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏在审
申请号: | 201610407252.5 | 申请日: | 2016-06-12 |
公开(公告)号: | CN106125972A | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 张伟;张琨鹏;刘宇;李慧;王晓康;任艳伟;辛利文 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏,其方法包括以下步骤:S1,制作第一保护层,该第一保护层覆盖各个触摸电极的上表面,以及填充各个相邻两个触摸电极之间的间隙;S2,去除各个触摸电极的上表面的第一保护层;S3,制作第二保护层,该第二保护层覆盖各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面。本发明提供的保护层的制作方法,其可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象,以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象,从而提高显示质量。 | ||
搜索关键词: | 保护层 制作方法 阵列 及其 触摸屏 | ||
【主权项】:
一种保护层的制作方法,触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极,以在相邻两个所述触摸电极之间形成间隙,其特征在于,包括以下步骤:S1,制作第一保护层,所述第一保护层覆盖各个所述触摸电极的上表面,以及填充各个所述间隙;S2,去除各个所述触摸电极的上表面的所述第一保护层;S3,制作第二保护层,所述第二保护层覆盖各个所述触摸电极的上表面以及各个所述间隙中的第一保护层的上表面。
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