[发明专利]用于反应器的衬托器构造以及加热加工气体以用于反应器的方法有效
| 申请号： | 201610409422.3 | 申请日： | 2016-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN106256763B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·马修·扎拉尔 | 申请（专利权）人： | 赫姆洛克半导体运营有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B33/107 | 分类号： | C01B33/107 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 汤慧华;郑霞 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于反应器的衬托器构造，所述衬托器构造包括加热器元件，所述加热器元件被配置为加热在所述反应器中使用的加工气体。所述衬托器构造还包括内部衬托器部分，所述内部衬托器部分位于所述加热器元件径向向内的位置并被配置为引导其中的所述加工气体沿着径向内部加工气体路径。所述衬托器构造还包括外部衬托器部分，所述外部衬托器部分位于所述加热器元件径向向外的位置并被配置为引导其中的所述加工气体沿着径向外部加工气体路径，其中所述径向内部加工气体路径和所述径向外部加工气体路径流体联接并且基本上与所述加热器元件流体分离。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反应器 衬托 构造 以及 加热 加工 气体 方法 | ||
【主权项】：
一种用于反应器的衬托器构造，包括：加热器元件，所述加热器元件被配置为加热在所述反应器中使用的加工气体；内部衬托器部分，所述内部衬托器部分位于所述加热器元件径向向内的位置并被配置为引导其中的所述加工气体沿着径向内部加工气体路径；以及外部衬托器部分，所述外部衬托器部分位于所述加热器元件径向向外的位置并被配置为引导其中的所述加工气体沿着径向外部加工气体路径，其中所述径向内部加工气体路径和所述径向外部加工气体路径流体联接并且基本上与所述加热器元件流体分离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫姆洛克半导体运营有限责任公司，未经赫姆洛克半导体运营有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610409422.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多层石墨烯的制备方法
- 下一篇：一种制备纳米级方钠石分子筛成型物的方法
