[发明专利]西瓜室内种植与造型用系统

摘要

本发明公开了一种西瓜室内种植与造型用系统，包括：轴，其竖直成列设置，所述轴的下端插入地面内至少30cm，轴未插入地面的部分长度至少为2m；多个攀爬部，其为沿所述轴的长度方向上均匀间隔开螺旋状排列设置的爬梯结构，一个轴上至少设置4个攀爬部，每个攀爬部宽度自轴的上端向下端逐渐增大；多个横杆，其均匀间隔开设置在爬梯结构的攀爬面上，相邻两个横杆之间的间隔距离为8‑15cm；其中，西瓜秧苗围绕轴呈环形种植，相邻西瓜秧苗的种植穴之间的间隔距离至少为25cm，西瓜秧苗的种植穴距离多个攀爬部下端的最短距离至少为20cm。本发明能够有效利用室内空间，有利于枝繁叶茂，促进通风透光，促进瓜苗健壮生长，保证西瓜的均匀生长，提高西瓜品质。

主权项

一种西瓜室内种植与造型用系统，其特征在于，包括：轴，其竖直设置在室内地面上，所述轴的下端插入地面内至少30cm，所述轴未插入地面的部分长度至少为2m；多个攀爬部，其为沿所述轴的长度方向上均匀间隔开螺旋状排列设置的爬梯结构，所述多个攀爬部之间的最大距离为30cm，一个轴上至少设置4个攀爬部，每个攀爬部宽度自轴的上端向下端逐渐增大，且每个攀爬部的宽度范围为40‑70cm；多个横杆，其均匀间隔开设置在爬梯结构的攀爬面上，相邻两个横杆之间的间隔距离为8‑15cm；其中，西瓜秧苗围绕所述轴呈环形种植，相邻西瓜秧苗的种植穴之间的间隔距离至少为25cm，西瓜秧苗的种植穴距离多个攀爬部下端的最短距离至少为20cm。