[发明专利]扇出走线结构,阵列基板及液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201610413059.2 申请日: 2016-06-12
公开(公告)号: CN105867035A 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 李亚锋;邬金芳 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种扇出走线结构,阵列基板及液晶显示装置。该扇出走线结构包括:至少一对走线形状一致且位置上下相互对应的由绝缘层隔离的第一扇出走线和第二扇出走线;第一扇出走线的前段由材质为第一金属的第一金属层形成,后段由材质为第二金属的第二金属层形成,第一金属层和第二金属层的位置呈上下层配置,第一扇出走线的前段和后段通过第一绝缘层过孔相互连接在一起;第二扇出走线的前段由该第二金属层形成,后段由该第一金属层形成,该第二扇出走线的前段和后段通过第二绝缘层过孔相互连接在一起。本发明还提供了阵列基板和液晶显示装置。本发明能够实现高分辨率下窄边框设计需求,同时还可以避免因为相邻扇出走线阻抗差异而带来的显示不良。
搜索关键词: 出走 结构 阵列 液晶 显示装置
【主权项】:
一种扇出走线结构,其特征在于,包括:至少一对走线形状一致且位置上下相互对应的第一扇出走线和第二扇出走线,该第一扇出走线和第二扇出走线之间由绝缘层隔离;该第一扇出走线的前段由材质为第一金属的第一金属层形成,该第一扇出走线的后段由材质为第二金属的第二金属层形成,该第一金属层和第二金属层的位置呈上下层配置,该第一扇出走线的前段和后段通过第一绝缘层过孔相互连接在一起;该第二扇出走线的前段由该第二金属层形成,该第二扇出走线的后段由该第一金属层形成,该第二扇出走线的前段和后段通过第二绝缘层过孔相互连接在一起。
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