[发明专利]一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法在审
| 申请号： | 201610417186.X | 申请日： | 2016-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN106087066A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 吴敬军 | 申请（专利权）人： | 廊坊中电熊猫晶体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 | 代理人： | 沈根水 |
| 地址： | 065001 河北省廊坊市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提出的是一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法,包括如下步骤:1)先用质量浓度为30%氟化氢铵（NH4HF2）溶液和质量浓度为15%氢氟酸（HF）溶液的混合溶液腐蚀石英晶体片;2)用纯水清洗石英晶体片;3)再用质量浓度为26%氢氟酸溶液腐蚀石英晶体片；4)腐蚀石英晶体片时腐蚀液温度为36℃；若石英晶体片总体需要腐蚀去掉的厚度为t，则氟化氢铵和氢氟酸混合溶液腐蚀去掉的厚度为t*1/3,氢氟酸溶液腐蚀去掉的厚度为t*2/3。优点：用两种腐蚀溶液腐蚀石英晶体片表面，解决了以往改善石英晶体片表面粗糙度必须研磨抛光的做法。设备投资少、操作简便、生产效率高、加工成本低、产品品质容易控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 石英 晶体 表面 粗糙 方法 | ||
【主权项】：
一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法,其特征是该方法包括如下步骤:1)先用质量浓度为30%氟化氢铵和质量浓度为15%氢氟酸的混合溶液腐蚀石英晶体片;2)用纯水清洗石英晶体片;3)再用质量浓度为26%氢氟酸溶液腐蚀石英晶体片；4)腐蚀石英晶体片时腐蚀液温度为36℃；若石英晶体片总体需要腐蚀去掉的厚度为t，则氟化氢铵和氢氟酸混合溶液腐蚀去掉的厚度为t*1/3, 氢氟酸溶液腐蚀去掉的厚度为t*2/3。
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