[发明专利]色阻层的制作方法有效

专利信息
申请号: 201610422372.2 申请日: 2016-06-15
公开(公告)号: CN106019686B 公开(公告)日: 2019-07-02
发明(设计)人: 陈黎暄 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种色阻层的制作方法,该方法利用微转印技术制作色阻层,先在第一基板上形成一色阻薄膜,随后通过一微转印传送头将部分色阻薄膜吸附到该微转印传送头的多个凸起部上,然后将微转印传送头吸附的部分色阻薄膜释放到第二基板上,从而在第二基板上形成色阻层,该方法通过微转印传送头的多个凸起部的组成图案来控制色阻层的图案,不需要曝光和显影,不浪费色阻材料,制作过程简单,生产成本低,适用范围广。
搜索关键词: 色阻层 制作方法
【主权项】:
1.一种色阻层的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一第一基板(1),在所述第一基板(1)上涂布色阻材料,固化后形成一色阻薄膜(2);步骤2、提供一微转印传送头(3),所述微转印传送头(3)的一侧表面上形成有多个凸起部(4),所述多个凸起部(4)组成的图案与待形成的色阻层的图案相同;步骤3、利用所述微转印传送头(3)将部分色阻薄膜(2)吸附到所述微转印传送头(3)的多个凸起部(4)上;步骤4、提供一第二基板(5),对位所述微转印传送头(3)与第二基板(5),将所述微转印传送头(3)的多个凸起部(4)上吸附的色阻薄膜(2)释放到第二基板(5)上,在所述第二基板(5)上形成色阻层(6);所述步骤4具体包括:先将所述微转印传送头(3)形成有多个凸起部(4)的一侧表面与所述第二基板(5)对位贴合到一起,然后再将微转印传送头(3)从第二基板(5)上揭开,从而在所述第二基板(5)上形成色阻层(6);所述微转印传送头(3)对所述色阻薄膜(2)的吸附力与所述微转印传送头(3)的揭开速度成正比。
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