[发明专利]掩膜组件及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610423043.X | 申请日： | 2016-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN106086781B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 李冬伟;李宝军;黄俊杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩膜组件及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜组件包括：框架、第一掩膜板和第二掩膜板，第一掩膜板和第二掩膜板层叠设置在框架上；其中，第一掩膜板包括开口区域，第二掩膜板包括蒸镀区域和围绕在蒸镀区域周围的缓冲区域，蒸镀区域内设置有供蒸镀材料通过的蒸镀孔，缓冲区域用于对蒸镀材料进行阻挡，开口区域的边界在第二掩膜板的正投影位于缓冲区域内。本发明解决了掩膜组件的对位精度较低的问题，达到了提高掩膜组件的对位精度的效果。本发明用于蒸镀。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜组件，所述掩膜组件包括：框架、第一掩膜板和第二掩膜板，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板层叠设置在所述框架上，其特征在于，所述第一掩膜板包括开口区域，所述第二掩膜板包括蒸镀区域和围绕在所述蒸镀区域周围的缓冲区域，所述蒸镀区域内设置有供蒸镀材料通过的蒸镀孔，所述缓冲区域用于对蒸镀材料进行阻挡，所述开口区域的边界在所述第二掩膜板的正投影位于所述缓冲区域内。
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