[发明专利]一种热控式自适应抛光磨头在审
| 申请号： | 201610423277.4 | 申请日： | 2016-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN107498424A | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 王飞;王高文;彭利荣;王绍治;隋永新;杨怀江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)44316 | 代理人： | 郝明琴 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种热控式自适应抛光磨头，包括法兰基座、安装在法兰基座上用于产生热能的加热单元、位于加热单元上且用于控制加热单元温度的热控单元、与加热单元接触传热的抛光层，加热单元与抛光层同心设置，热控单元通过控制加热单元产生的热能调节抛光层的硬度。热控式自适应抛光磨头可有效增加硬质抛光模与非球面的接触面积，尤其适合大偏离度非球面预抛光加工的中频误差控制，为加工高精度、大偏离度非球面光学零件提供了有效方案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热控式 自适应 抛光 | ||
【主权项】：
一种热控式自适应抛光磨头，其特征在于，包括法兰基座、安装在所述法兰基座上用于产生热能的加热单元、位于所述加热单元上且用于控制所述加热单元温度的热控单元、与所述加热单元接触传热的抛光层，所述加热单元与所述抛光层同心设置，所述热控单元通过控制所述加热单元产生的热能调节所述抛光层的硬度。
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