[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201610425528.2 申请日: 2016-06-15
公开(公告)号: CN106328658B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 佐佐木俊成 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种形成了导通电流不同的多个构造的晶体管的半导体装置。半导体装置具有第1晶体管和第2晶体管,上述第1晶体管具有:第1电极、具有第1侧壁的第1绝缘层、第1侧壁上的与第1电极连接的第1氧化物半导体层、与第1氧化物半导体层对置的第1栅极电极、第1氧化物半导体层与第1栅极电极之间的第1栅极绝缘层、以及第1绝缘层的上方的与第1氧化物半导体层连接的第2电极,上述第2晶体管具有:第3电极、从第3电极离开的第4电极、第3电极与第4电极之间的与第1氧化物半导体层同一层的第2氧化物半导体层、与第2氧化物半导体层对置的第2栅极电极、以及第2氧化物半导体层与第2栅极电极之间的第2栅极绝缘层。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具有第1晶体管和第2晶体管,上述第1晶体管具有:第1电极;具有第1侧壁的第1绝缘层;上述第1侧壁上的与上述第1电极连接的第1氧化物半导体层;与上述第1氧化物半导体层对置的第1栅极电极;上述第1氧化物半导体层与上述第1栅极电极之间的第1栅极绝缘层;以及上述第1绝缘层的上方的与上述第1氧化物半导体层连接的第2电极,上述第2晶体管具有:第3电极;从上述第3电极离开的第4电极;上述第3电极与上述第4电极之间的与上述第3电极以及上述第4电极分别连接的第2氧化物半导体层;与上述第2氧化物半导体层对置的第2栅极电极;以及上述第2氧化物半导体层与上述第2栅极电极之间的第2栅极绝缘层,上述第1氧化物半导体层以及上述第2氧化物半导体层是同一层,上述第1栅极绝缘层以及上述第2栅极绝缘层是同一层。
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