[发明专利]半导体封装件及其制造方法有效
申请号: | 201610431332.4 | 申请日: | 2013-03-25 |
公开(公告)号: | CN105957854B | 公开(公告)日: | 2018-08-21 |
发明(设计)人: | 颜瀚琦;沈伟特;林政男 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L23/64 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 中国台湾高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 半导体封装件包括导线架、半导体芯片、第一电容导电层、第一电容介电层、焊线及封装体。导线架包括彼此隔离的芯片座与外引脚。半导体芯片设于芯片座上。第一电容介电层形成于芯片座上并与半导体芯片并排地配置,第一电容导电层形成于第一电容介电层上。焊线电性连接半导体芯片与第一电容导电层。封装体包覆半导体芯片、第一电容导电层、第一电容介电层及焊线,外引脚的外侧面从封装体露出。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体封装件,其特征在于,包括:一导线架,包括一芯片座;一半导体芯片,设于该芯片座上;一第一电容介电层,形成于该芯片座上并与该半导体芯片并排地配置;一第一电容导电层,形成于第一电容介电层上,且与该半导体芯片电性连接;一第二电容介电层,形成于该第一电容导电层上且包括一介电包覆部,该介电包覆部包覆该第一电容导电层的一外侧面;一第二电容导电层,形成于该第二电容介电层上,其中,该第二电容导电层从该介电包覆部的外侧延伸至该芯片座;以及一封装体,包覆该半导体芯片、该第一电容导电层及该第一电容介电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610431332.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体装置和存储器系统
- 下一篇:辐射状散热器