[发明专利]硅红外检光器的结构及其制作方法在审
申请号: | 201610436440.0 | 申请日: | 2016-06-17 |
公开(公告)号: | CN105932077A | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 李宝霞;薛海韵 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅;刘海 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅红外检光器的结构及其制作方法,以带有重补偿的超重掺杂硅单晶材料为红外光电转换材料,包括单独采用带有重受主补偿的超重施主掺杂硅单晶材料或带有重施主补偿的超重受主掺杂硅单晶材料吸收红外光产生电子‑空穴对,或者同时采用带有重受主补偿的超重施主掺杂硅单晶材料和带有重施主补偿的超重受主掺杂硅单晶材料构成PN结来吸收红外光产生电子‑空穴。本发明在硅单晶材料中同时重掺入施主杂质和受主杂质,在禁带中同时出现施主杂质能带和受主杂质能带,同时出现连接导带的能带尾和连接价带的能带尾,杂质能级参与红外光子吸收,以及电子和空穴的跃迁,提高硅材料在近红外通信波段的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 红外 检光器 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种硅红外检光器的结构,包括硅层和位于硅层上表面的钝化层,在硅层上表面形成脊形光波导,在钝化层中设置检光器的阴极和阳极;其特征是:在所述硅层中脊形光波导的两翼设置第一掺杂区域和第二掺杂区域,在脊形光波导设置带有重补偿的超重掺杂区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的