[发明专利]硅红外检光器的结构及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201610436440.0 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN105932077A 公开(公告)日: 2016-09-07
发明(设计)人: 李宝霞;薛海韵 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;刘海
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种硅红外检光器的结构及其制作方法,以带有重补偿的超重掺杂硅单晶材料为红外光电转换材料,包括单独采用带有重受主补偿的超重施主掺杂硅单晶材料或带有重施主补偿的超重受主掺杂硅单晶材料吸收红外光产生电子‑空穴对,或者同时采用带有重受主补偿的超重施主掺杂硅单晶材料和带有重施主补偿的超重受主掺杂硅单晶材料构成PN结来吸收红外光产生电子‑空穴。本发明在硅单晶材料中同时重掺入施主杂质和受主杂质,在禁带中同时出现施主杂质能带和受主杂质能带,同时出现连接导带的能带尾和连接价带的能带尾,杂质能级参与红外光子吸收,以及电子和空穴的跃迁,提高硅材料在近红外通信波段的光电转换效率。
搜索关键词: 红外 检光器 结构 及其 制作方法
【主权项】:
一种硅红外检光器的结构,包括硅层和位于硅层上表面的钝化层,在硅层上表面形成脊形光波导,在钝化层中设置检光器的阴极和阳极;其特征是:在所述硅层中脊形光波导的两翼设置第一掺杂区域和第二掺杂区域,在脊形光波导设置带有重补偿的超重掺杂区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华进半导体封装先导技术研发中心有限公司,未经华进半导体封装先导技术研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610436440.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top