[发明专利]带保护膜的偏光板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610438379.3 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN106257314B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 古谷勉;猪口雄平 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 李晓
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种带保护膜的偏光板的制造方法,其包含偏光板的单面与保护膜重叠地通过一对贴合辊之间从而进行挤压的工序,保护膜的厚度为T1(μm)、MD上的拉伸弹性模量为E1(MPa)、通过一对贴合辊之前的MD上的膜张力为F1(N/m)、偏光板的厚度为T2(μm)、MD方向上的拉伸弹性模量为E2(MPa)、通过一对贴合辊之前的MD上的膜张力为F2(N/m)时,所述进行挤压的工序在满足下述式F1/(E1×T1)>F2/(E2×T2)的条件下进行。
搜索关键词: 保护膜 偏光 制造 方法
【主权项】:
一种带保护膜的偏光板的制造方法,其包含偏光板的单面与保护膜重叠地通过一对贴合辊之间从而进行挤压的工序,所述保护膜的厚度为T1μm、MD上的拉伸弹性模量为E1MPa、通过所述一对贴合辊之前的MD上的膜张力为F1N/m、所述偏光板的厚度为T2μm、MD方向上的拉伸弹性模量为E2MPa、通过所述一对贴合辊之前的MD上的膜张力为F2N/m时,所述进行挤压的工序在满足下述式(I)的条件下进行,【数1】F1(E1×T1)>F2(E2×T2)---(I).]]>
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