[发明专利]靶材组件及其加工方法在审

专利信息
申请号: 201610440020.X 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN107513691A 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;徐礼升 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;B23P15/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 高静,吴敏
地址: 315400 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种靶材组件及其加工方法,所述靶材组件包括背板,包括焊接区域以及环绕焊接区域的边缘区域;靶坯,焊接于焊接区域的背板上;环形吸附结构,位于边缘区域的背板内且环绕靶坯,环形吸附结构包括一个环形吸附槽;或者,环形吸附结构包括一个环形吸附槽组,环形吸附槽组包括至少两个环形吸附槽,且环形吸附槽呈相互间隔的同心排布。本发明提供一种靶材组件,包括位于边缘区域的背板内且环绕靶坯的环形吸附结构,环形吸附结构包括一个环形吸附槽或环形吸附槽组,环形吸附槽组包括至少两个环形吸附槽;因此在靶材溅射过程中,可以使反溅射材料堆积至环形吸附槽内,从而减少或避免反溅射材料发生剥落而掉落至硅片上的情况。
搜索关键词: 组件 及其 加工 方法
【主权项】:
一种靶材组件,其特征在于,包括:背板,包括焊接区域以及环绕所述焊接区域的边缘区域;靶坯,焊接于所述焊接区域的背板上;环形吸附结构,位于所述边缘区域的背板内且环绕所述靶坯,所述环形吸附结构包括一个环形吸附槽;或者,所述环形吸附结构包括一个环形吸附槽组,所述环形吸附槽组包括至少两个环形吸附槽,且所述环形吸附槽呈相互间隔的同心排布。
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