[发明专利]一种手机面板多层镀膜层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610442789.5 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN106086813B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 裴艳丽;林家勇;刘佳慧;吴土祥 申请(专利权)人: 中山大学;深圳业际光电有限公司
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C14/30;C23C14/08;C23C28/04
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 陈卫
地址: 510275 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及玻璃基板的多层镀膜的技术领域,更具体地,涉及一种手机面板多层镀膜层及其制备方法。本发明提供了一种在玻璃基板上制备高透、耐磨的多层膜技术,其中具体包括玻璃基板,氧化镁多晶种子层,氧化铝高硬耐磨镀膜层,氧化钛/氧化铝叠层增透层;本发明1)采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术可大面积,均匀成膜,2)通过多晶缓冲层设计,在较低成膜温度下外延生长微晶非晶混合结构的高硬氧化铝镀膜;3)通过氧化铝/氧化钛/氧化铝叠层增加透过率。
搜索关键词: 一种 手机 面板 多层 镀膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种手机面板多层镀膜层,其特征在于,包括玻璃基板、形成于其上的氧化镁种子层、氧化铝层,其上的氧化钛/氧化铝多层增透层;所述的氧化镁种子层采用MOCVD方法制备,制备温度为300‑600度之间,厚度为2‑10nm,为多晶结构,反应物为高纯氧或者去离子水、二茂镁,氩气或者氮气为载气;所述的氧化铝层,采用MOCVD方法在种子层之上原位制备,制备温度为300‑600度,厚度为500nm‑1um,晶体结构为微晶、纳米晶、非晶混合结构。
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