[发明专利]磁屏蔽室开关机构有效
申请号: | 201610444315.4 | 申请日: | 2016-06-20 |
公开(公告)号: | CN106028770B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | 潘东华;李立毅;孙芝茵 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人: | 范光晔 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明涉及一种磁屏蔽室开关结构。主要解决了现有大屏蔽室的屏蔽门、屏蔽窗的屏蔽效果差的问题。所述的固定屏蔽部分1与活动屏蔽部分2分别由至少两层的导磁屏蔽层构成,固定屏蔽部分1开口相对的两侧及活动屏蔽部分2两侧根据屏蔽层的分层结构分别设置为阶梯形式,固定屏蔽部分1开口相对的两侧的阶梯形式结构与活动屏蔽部分2两侧阶梯形式结构搭接,并通过支撑结构3限位固定。具有结构简单、屏蔽效果好的特点。 | ||
搜索关键词: | 屏蔽 开关 机构 | ||
【主权项】:
1.一种磁屏蔽室开关机构,与磁屏蔽室配合设置,包括固定屏蔽部分(1)、活动屏蔽部分(2)、及支撑结构(3),其特征在于:所述的固定屏蔽部分(1)与活动屏蔽部分(2)分别由至少两层的导磁屏蔽层构成,固定屏蔽部分(1)开口相对的两侧及活动屏蔽部分(2)两侧根据屏蔽层的分层结构分别设置为阶梯形式,固定屏蔽部分(1)开口相对的两侧的阶梯形式结构与活动屏蔽部分(2)两侧阶梯形式结构搭接,所述的固定屏蔽部分(1)与活动屏蔽部分(2)搭接在同一平面上,支撑结构(3)在对应固定屏蔽部分(1)与活动屏蔽部分(2)搭接的位置上设置有由导磁材料制成的搭接机构(4),进一步扩大屏蔽结构的搭接面积,取得更好导磁效果,实现更好的屏蔽效果,构成导磁屏蔽层与搭接机构的导磁材料为坡莫合金。
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