[发明专利]一种增大金刚石膜沉积面积的方法在审
| 申请号： | 201610446919.2 | 申请日： | 2016-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN106011781A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 彭金辉;江彩义;郭胜惠;杨黎;王梁 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/517;C23C16/02;C23C16/458 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种增大金刚石膜沉积面积的方法，属于金刚石膜制备技术领域。本发明所述方法首先将基片用含金刚石粉末的乙醇悬浮溶液超声处理45min，然后在丙酮、乙醇和蒸馏水中分别超声清洗10min，最后在氮气环境中干燥。以H2、CH4为反应气体，采用微波等离子体化学气相沉积技术，控制系统压力为4～8kPa，温度为750～900℃，微波功率为5～8kW，甲烷流量为2～6sccm，氢气流量为100～300sccm的范围，并使基片以1～2cm/min的速度呈正四边形运动，从而增大金刚石膜的沉积面积。本发明具有操作简单，设备要求低，实用性强的特点。在低微波功率条件下，实现了金刚石膜沉积面积的增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增大 金刚石 沉积 面积 方法 | ||
【主权项】：
一种增大金刚石膜沉积面积的方法，其特征在于：使基片不断移动，从而增大金刚石膜的沉积面积，基片的运动速度为1～2cm/min。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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