[发明专利]一种多孔二氧化钛薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201610447314.5 | 申请日： | 2016-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN106399942B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 刘红日;晏金伟;马丽;吴亚平;孙慧娟;孙玉霞;刘兴云;鲁池梅 | 申请（专利权）人： | 湖北师范学院 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/26;C23C14/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 435002*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多孔二氧化钛薄膜及制备方法，属于材料技术领域。本发明所述多孔二氧化钛薄膜与导电玻璃粘附牢固，所述方法主要通过真空蒸发结合电解法制备多孔TiO2薄膜，本发明所述多孔TiO2薄膜不仅可以作为光阳极应用在太阳能电池中，也可以电极应用在电化学工艺和催化剂的反应容器中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多孔 氧化 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多孔二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(1)材料的预处理把钛片剪成丝状，超声清洗，其中超声清洗的溶剂依次分别为丙酮、无水乙醇、蒸馏水，将清洗后的钛片于烤箱中，烘干，备用；(2)真空蒸发镀膜称取0.2‑0.6g的钛，在压强为3.0×10‑3Pa、蒸发电流为240A的环境下，以洁净的导电玻璃(FTO/glass)为载体，在真空蒸发系统中镀膜，得到Ti/FTO/glass，在压强为3.0×10‑3Pa、温度为500℃的环境下退火，冷却；(3)多孔二氧化钛薄膜的制备将步骤(2)得到的Ti/FTO/glass在5‑30V的电压下电解完成后在450‑600℃的环境下退火，即得；其中电压升高的速率为5V/30S。
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