[发明专利]一种亚微米级碳化硼粉体及其制备方法和用途在审
申请号: | 201610447716.5 | 申请日: | 2016-06-20 |
公开(公告)号: | CN106082230A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 田陆;黄郁君 | 申请(专利权)人: | 北京光科博冶科技有限责任公司 |
主分类号: | C01B31/36 | 分类号: | C01B31/36;G21C7/24;G21F1/06;G21F1/10;C09K3/14;F41H5/00 |
代理公司: | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人: | 廉红果;李晓菲 |
地址: | 100000 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高生产效率、降低生产成本且制备出高纯度、精粒度的亚微米级碳化硼粉体及其合成方法和用途。其中碳化硼的纯度为98.5%~99.4%,平均粒径为0.4‑5μm,所占比例为90%以上,制备该亚微米级碳化硼粉体的方法:配备原料、初步混合;添加研磨介质,混料均匀;原料与研磨介质分离;压制成生坯;坯体入反应装置进行自蔓延的合成反应;对反应产物破碎;研磨、分离;酸洗提纯;物料过滤、洗涤、干燥;气流破碎。该方法合成的碳化硼粉末可以应用于核反应堆中,用中子吸收材料和辐射防护材料;可以经过高温高压烧结制成装甲材料;还可以做为精细高级研磨的磨料和研磨剂。 | ||
搜索关键词: | 一种 微米 碳化 硼粉体 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
一种亚微米级碳化硼粉体,其中碳化硼的纯度为98.5%~99.4%,平均粒径为0.4‑5μm,所占比例为90%以上。
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