[发明专利]一种低散射支架及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610450184.0 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN106125051B 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 许勇刚;梁子长;王晓冰;郭良帅;高伟 申请(专利权)人: 上海无线电设备研究所
主分类号: G01S7/02 分类号: G01S7/02;G01S7/41;G01D11/30
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;张妍
地址: 200090 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种低散射支架,其采用平面单元来构筑所述低散射支架的外表面,该外表面采用吸波材料技术,并涂覆超疏水涂层,该低散射支架采用支架轴线竖直的立式空间结构,低散射支架外表面背向入射电磁波的部位为锯齿形结构。其优点是:相对倾斜式布局的支架,在同样承重载荷下结构尺寸能够大大减小,能够大大降低外场试验的制造成本和维护成本,是一种耐环境破坏和低成本的电磁散射测试支架。
搜索关键词: 一种 散射 支架 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种低散射支架,其特征在于:其具有一低散射的外表面,该外表面采用吸波材料技术,该采用吸波材料技术处理过的外表面上涂覆超疏水涂层(5);所述低散射支架采用支架轴线竖直的立式空间结构,支架外表面背向入射电磁波的部位为锯齿形结构(2);所述低散射支架外形为沿支架轴线方向连续设置的多个周期结构(1),每个周期结构(1)的外形横截面为一改进的菱形形状,该菱形形状的侧向两边包含倒角(3),后端夹角部位为所述的锯齿形结构(2);每个所述的周期结构(1)包含一组上下对称的拓扑结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海无线电设备研究所,未经上海无线电设备研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610450184.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top