[发明专利]发光二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201610453646.4 申请日: 2016-06-22
公开(公告)号: CN106784220A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 胡威威;张书明;周坤;池田昌夫;刘建平;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/22;H01L33/32;H01L33/10;H01L33/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种发光二极管,包括氮化镓衬底,所述氮化镓衬底的顶部形成有外延结构,所述外延结构连接有第一电极和第二电极,所述氮化镓衬底的底部形成有凸出的微结构层。本发明提供的发光二极管及其制作方法,对氮化镓衬底的底部进行腐蚀形成微结构层,然后在具有微结构层的氮化镓衬底的底部沉积反射膜,使得光线在发光二极管内部的传输路径发生改变,避免光线在发光二极管内部来回循环反射,从而减小光线在发光二极管内部的损耗,增大了光线从发光二极管内部折射出来的概率、提升了发光二极管的外量子效率;同时,采用氮化镓作为衬底,降低了氮化镓基发光二极管的晶格失配度以及位错密度。
搜索关键词: 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
一种发光二极管,包括氮化镓衬底,所述氮化镓衬底的顶部形成有外延结构,所述外延结构连接有第一电极和第二电极,其特征在于,所述氮化镓衬底的底部形成有凸出的微结构层。
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